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石墨片(PI膜)碳化炉

专为导热石墨片(PI膜堆叠)及碳材料设计的预碳化方案。通过 400-950℃ 的精准控温与30段程序升温控制,有效平衡 PI 膜在碳化过程中的收缩率,确保成品平整无折皱。配备专用焦油捕集系统,解决挥发分堵塞与环保排放难题。

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产品概述


本系列 PI 膜碳化炉是高导热石墨材料生产的核心预处理设备。针对聚酰亚胺薄膜在碳化阶段产生的大量有机挥发分,设备采用了加强型水冷密封结构与分级焦油冷凝捕集装置。通过极佳的温场均匀性设计,确保石墨片在 950℃ 以内的排气过程均匀、稳定,为后续超高温石墨化工序打好基础。



核心应用优势



       
  • 平整度控制: 优化的多区加热布局,配合 30 段微电脑控温曲线,实现缓慢升温脱焦,有效解决 PI 膜堆叠过程中的形变与起泡问题。

  •    
  • 高效废气管理: 专用焦油捕集器配合大口径排气通道,能够实时冷凝并收集高浓度有机物,防止炉膛积碳与管路堵塞。

  •    
  • 卓越密封性: 采用双层水冷法兰密封结构,耐挥发分腐蚀,确保长期在还原气氛下运行的气密性与安全性。

  •    
  • 灵活定制化: 提供从 50L 实验型到 2000L 量产型等多种容积选择,支持按客户装料工艺定制内部料架结构。



技术参数表

    
参数项目 技术指标
工艺温度范围 400℃ 至 950℃(连续可调)
废气处理系统 集成式焦油捕集器 + 尾气直排控制
控温精度 ±0.1℃(智能 PID 调节)
程序段数 30段曲线编程(支持阶梯式升降温)
密封形式 水冷密封,防腐蚀密封材料
装料容积 50L / 200L / 500L / 1000L / 2000L(可选)

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