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核心应用:专用于 PI 膜(聚酰亚胺)、锂电负极材料、碳纤维灯丝 及各种碳材料的超高温石墨化生产。 技术指标:最高设计温度 3000℃,常用工作温度 2900℃。极限升温速度达 200℃/分钟(空炉),温控精度 ±1℃。...
核心应用:主要用于炭/炭复合材料、硬质/固化保温毡、石墨制品等材料的高温石墨化与深度提纯。 技术性能:可在 2850℃ 极端高温下长时间稳定运行,支持电阻加热或中频感应加热两种方案。 结构优势:采用多温区...
设备亮点:专为工业化量产设计的卧式结构,装卸料及维护极其方便,空间利用率高。 温度能力:最高设计温度达 3000℃,满足各种碳材料、PI膜及导热膜的极致石墨化需求。 技术突破:彻底解决卧式炉坩埚烧蚀下沉难...
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