产品概述 / Overview

双并立式圆形CVD气相沉积炉是远航工业炉为解决高性能复合材料（C/C, C/SiC）批量化生产而研制的高效系统。该设备通过在真空或保护气气氛下，将前驱气体引入高温反应室，在基底表面沉积形成致密涂层或通过气相渗透（CVI）填充孔隙，从而提升材料的力学性能。

图：远航工业炉-双并立式高效CVD沉积系统实拍

核心技术特征 / Features

• ?? 双炉高效产出：一套电源系统支持双炉体，在二号炉降温出料时，一号炉可处于加热或沉积状态，无缝对接。
• ?? 超高温环境：常用工作温度 2000℃，极限设计温度达 2100℃，确保沉积产物的结晶度与质量。
• ?? 精密气流布气：多通道进气系统配有七星华创质量流量计，保证反应气体在圆形炉膛内的均匀分布。
• ?? 全自动工艺控制：采用西门子PLC结合日本岛电精密仪表，支持工艺参数的实时记录、查询与历史导出。

核心技术参数 / Specs

典型应用领域 / Applications

• • 航空航天： 炭刹车盘、航空结构件的沉积强化。
• • 单晶/多晶硅： 炭-炭热场材料（埚托、导流筒、保温筒）生产。
• • 半导体行业： 高纯石墨件表面SiC涂层制备。
• • 新型碳材： 石墨烯、碳纳米管的制备研究。

图：远航工业炉-CVD/CVI工艺精密反应室细节