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碳化硅反应烧结炉

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小型气氛真空箱式炉是本公司新开发的一种新型炉型，控温精度高≤0.1℃，温度均匀性好±2℃，温度可达2300℃。占地面积小，周转灵活。特别适合于小批量生产或者实验室使用。

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真空裂解炉

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小型气氛真空箱式炉是本公司新开发的一种新型炉型，控温精度高≤0.1℃，温度均匀性好±2℃，温度可达2300℃。占地面积小，周转灵活。特别适合于小批量生产或者实验室使用。

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碳化硅/氮化硅真空高温烧结炉

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小型气氛真空箱式炉是本公司新开发的一种新型炉型，控温精度高≤0.1℃，温度均匀性好±2℃，温度可达2300℃。占地面积小，周转灵活。特别适合于小批量生产或者实验室使用。

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感应式碳化硅烧结炉

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小型气氛真空箱式炉是本公司新开发的一种新型炉型，控温精度高≤0.1℃，温度均匀性好±2℃，温度可达2300℃。占地面积小，周转灵活。特别适合于小批量生产或者实验室使用。

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