产品概述 / Overview
化学气相沉积（CVD）是一种通过前驱气体热分解生成反应产物，并沉积在基底形成薄膜或基体致密化的工艺。远航工业炉研发的下出料CVD/碳化炉，针对碳/碳（C/C）复合材料、碳化硅（SiC）涂层等领域设计，是实现高性能材料致密化的核心关键设备。
图：远航工业炉-下出料CVD气相沉积/碳化炉实操现场
行业应用 / Applications
- ? 民航飞机炭刹车盘制备
- ? 单晶硅生长炉用炭-炭热场
- ? 多晶硅铸锭炉用结构件
- ? 炭-炭高温结构零部件
- ? 炭-炭-碳化硅复合材料
- ? 碳碳导流筒/保温筒/埚托
技术规格表 / Technical Specs
| 加热方式 | 等静压石墨电阻加热（低压大电流方式） |
| 设计/常用温度 | 最高温度2100℃/ 长期常用2000℃ |
| 温控精度 | ±0.1℃（日本岛电精密仪表控制） |
| 极限真空度 | ≤ 5Pa（冷态空炉状态下） |
| 恒压控制 | 100-7500Pa 范围全自动微正压恒定控制 |
| 控制系统 | 西门子PLC + 15寸台达触摸屏（带历史数据导出） |
| 有效放料空间 | 根据客户工艺需求提供非标尺寸定制 |
系统特征 / System Features
1.多级气路管理：配备北京七星华创质量流量计，精确控制前驱体及保护气体流量。
2.高安全性设计：全面配备声光报警系统、PLC逻辑互锁及多重超温保护。
3.定制化物流：配置专用下出料进出料车，大幅提升生产效率并降低工人劳动强度。
4.精密真空控制：采用电阻+电容薄膜真空规管，实现全量程高精度真空测量与反馈。
?? 远航提示：CVD/CVI工艺复杂，反应室设计与气路配置需严谨。我们提供多种尺寸定制及技术扩展服务，欢迎拨打 15115399105 咨询。